SPECTRO ARCOS

一一一高 分辨率全譜直讀ICP-CCD光譜儀

可廣泛適用于科研、冶金、機(jī)械、石化、環(huán)保、食品、地質(zhì)、生化等愈來(lái)愈復(fù)雜的元素分析需求

斯派克ARCOS ICP-OES在工業(yè)和學(xué)術(shù)應(yīng)用方面表現(xiàn)優(yōu)異，廣泛應(yīng)用于金屬、化學(xué)品、石化產(chǎn)品和其他材料的高級(jí)元素分析。作為一種快速、簡(jiǎn)便和精確的分析工具與手段，ICP-OES (電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀)被廣泛地應(yīng)用在各種元素分析的領(lǐng)域。然而，目前商品化的ICP-OES,由于其內(nèi)在結(jié)構(gòu)和性能的局限，無(wú)法滿足愈來(lái)愈復(fù)雜的元素分忻需求。SPECTRO ARCOS以其獨(dú)具匠心的創(chuàng)新性設(shè)計(jì)，可極好的滿足研發(fā)、工業(yè)、環(huán)保、石化、地質(zhì)、生化等領(lǐng)域的用戶需要，尤其適合復(fù)雜基體樣品的分析。

SPECTRO ARCOS可以方便的安裝在任何實(shí)驗(yàn)室中，儀器的表面經(jīng)過(guò)特殊的防腐處理，而且在整個(gè)進(jìn)樣室內(nèi)部也覆蓋有耐強(qiáng)腐蝕液體的保護(hù)膜。所有的部件和水電氣接頭都分別獨(dú)自放置，無(wú)須使用者拆裝儀器，維護(hù)和保養(yǎng)更加方便。SPECTRO ARCOS提供兩種觀測(cè)模式:軸向(水平)觀測(cè)和徑向(垂直)觀測(cè)，新的帕邢-龍格光學(xué)系統(tǒng)在130nm到340nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)均可保持恒定的分辨率。光學(xué)系統(tǒng)優(yōu)化的帕邢-龍格光學(xué)系統(tǒng)，再加上由鋁合金所鑄造的基座，為ICP技術(shù)創(chuàng)造了一個(gè)里程碑，它擁有史無(wú)前例的性能，在130nm到340nm光譜范圍里像素分辨率是3pm,340nm或以上的光譜范圍里像素是6pm。這種固定的分辨率值只能在帕邢-龍格光學(xué)系統(tǒng)上實(shí)現(xiàn)，它的優(yōu)勢(shì)在于能夠以高分辨率的模式分析復(fù)雜基體(富譜線光譜)，從而改善測(cè)量的精度。

新型SPECTRO ARCOS ICP-OES分析儀代表電感耦合等離子光學(xué)發(fā)射光譜儀效率和性能的新巔峰

?以一當(dāng)二：市場(chǎng)w一的MultiView等離子儀器，同一臺(tái)儀器同時(shí)具備真正軸向與真正徑向等離子觀測(cè)

?ORCA光學(xué)系統(tǒng): 130-770nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)光譜的元素同時(shí)測(cè)定，靈敏度五倍于Echelle系統(tǒng)——提供紫外線/真空紫外線范圍的同級(jí)z佳性能

?LDMOS發(fā)生器：功率高達(dá)2000瓦，足以輕松處理?yè)]發(fā)性有機(jī)物和高濃度溶解固體

斯派克ARCOS ICP-OES在工業(yè)和學(xué)術(shù)應(yīng)用方面表現(xiàn)優(yōu)異，廣泛應(yīng)用于金屬、化學(xué)品、石化產(chǎn)品和其他材料的高級(jí)元素分析。采用無(wú)觀察鏡MultiView機(jī)制，可在90秒或更短時(shí)間內(nèi)從徑向觀測(cè)切換為軸向觀測(cè)。

激發(fā)光源：

激發(fā)光源采用風(fēng)冷式陶瓷振蕩管和高精度固態(tài)電源，頻率為27. 12MHz,輸出功率為0.7至1.7KW，保證了SPECTRO ARCOS的等離子體有異乎尋常的穩(wěn)定性。免維護(hù)的激發(fā)光源無(wú)需任何電子或移動(dòng)元件協(xié)助運(yùn)行，可獨(dú)自調(diào)整共振頻率以適應(yīng)各種樣品，在測(cè)量各種變化很大的基體時(shí)，等離子體也可保持穩(wěn)定。相對(duì)于40.68MHz，27. 12MHz擁有更大的頻寬以適應(yīng)各種基體復(fù)雜的樣品。在進(jìn)行大負(fù)荷(如:有機(jī)樣品等)樣品分析時(shí),-般需要消耗很大的功率，但是SPECTROARCOS的高頻陶瓷振蕩管以及完全由計(jì)算機(jī)控制的高精度固態(tài)電源,可有效降低功率消耗，減少能量損失，提高耦合效率和延長(zhǎng)系統(tǒng)壽命。在等候情況下，操作者可選擇“待機(jī)模式”以減少功率和氬氣的消耗。

等離子體接口：

水平觀測(cè)模式*適合進(jìn)行痕量元素分析，**的Optical Plasma Interface(OPI)接口，能有效提高靈敏度，可獲得比垂直觀測(cè)模式好十倍的檢出限。傳統(tǒng)的ICP在水平觀測(cè)模式時(shí)會(huì)采用“尾焰切割”或“延長(zhǎng)炬管”來(lái)消除基體干擾的問(wèn)題，而OPI則是直接穿透等離子體,把尾焰吹開(kāi)，徹底消除基體干擾。如果沒(méi)有OP,在同時(shí)處理各種變化很大的基體時(shí)，尤其是在環(huán)保方面的樣品，會(huì)使得等離子體處于不穩(wěn)定狀態(tài)，并造成不良影響，例如回收率變差。借助十多年的實(shí)際應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)，OPI 在經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的改進(jìn)后， 簡(jiǎn)化了維護(hù)，并可確保精確。